刻蚀机|四类设备已经达国际领先！尹志尧详解中微半导体的成功秘诀！( 三 )

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△中微半导体开发的MOCD有机金属化合物气象沉积设备100台在客户生产线上被用于产品量产。
据尹志尧介绍，2017年到2021年，中微半导体的MOCVD设备也在不断进行了改进和提高，蓝绿光LED波长均匀性，已经成功从波长1.57nm做到了0.7nm左右。

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凭借出色的产品竞争力，中微的半导体设备获得了众多国内外客户的广泛认可。在2018年-2019年美国VLSI Reaseach全球半导体设备公司产品客户满意度评比中，中微半导体的是评比中，中微连续两年获得全球第三名。在2021年的客户满意度评比中，中微也有三项排名位居前列。

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3、产品创新：不要跟着外国人的设计
成立于2004年的中微半导体，从一家小的初创公司发展至今，已经成为了一家市值近千亿的国产半导体设备公司，并且在刻蚀设备及化学薄膜沉积设备领域拥有了较强的产品竞争力。
“中微公司经过17年努力，已经做到在国际上被认可的高质量设备公司。我们最近在总结这个17年经验和教训，提出了四个十大原则，指导我们能够把公司做大的一个基本经验。包括产品开发十大原则、战略和商务十大准则，运营管理的十大章法和精神文化十大作风。”

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特别是在中微产品开发十大原则方面，尹志尧表示：“我特别强调的是，开发产品不要老跟着外国人的设计，这样是不可能进一步发展的，所以中微在2004年启动的时候就提出来一个新的等离子源的概念，深高频去耦合的反应离子刻蚀，把高频和低频混频在电机上，这样的新型刻蚀机有非常好的性能。”

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另外，在机械结构上，中微半导体也做了创新。“美国都是单反应器的反应台，加工一片硅片成本很高，占地面积很大。我们回国以后提出双反应台的概念，一个反应腔里面有两个反应台，可以独立操作，也可以混合操作，误差一般在正负1%左右。这个设计到现在为止，国外三大公司都还没有做，只有中微能做出独立操作的双台机，这样使得成本降低了30%多，输出量提高了50%。”尹志尧非常自豪的介绍到。

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4、采取三维生长策略：10到15年内成为国际一流
在中微公司的战略和营运方面有着十大准则，前5条都是公司的发展战略，包括三维市场和产品发展战略、有机生长和外延扩展的战略、客户导向与引领市场的策略、立足中国和全球布局的策略、自立自强和合纵连横策略。

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尹志尧强调，“我们的半导体设备企业，不能只是满足于国内的国产替代，必须要打到国际上。另外我们也需要和国际半导体设备厂商、国际产业界合作，不能是关起门自己搞，这属于发展战略。”
在中微上市以后，决定采取三维生长策略。第一维是集成电路设备，从刻蚀机做到检测机，不断发展产品的覆盖度，现在有40%左右高端产品都可以覆盖，将来可以提高到50%以上。第二维是利用同样核心技术开发泛半导体设备，也包括薄膜设备、刻蚀设备、检测设备，中微已经成功进入了这些市场。此外，中微也在投资太阳能设备市场、显示屏技术，还有功率器件等等，这些领域发展的也是非常之快。第三维是非加工设备，或者其他的一些领域。