半导体|收藏：最全半导体产业链详细梳理（附相关概念）( 五 )

彤程新材：主营为特种橡胶助剂，通过控股北京科华进入半导体光刻胶市场。北京科华是唯一列入全球光刻胶八强的中国光刻胶公司，同时也是国内销售额最高的光刻胶公司。中国i线产品国产替代基本上靠北京科华贡献，同时也是唯一可以批量供应KrF光刻胶给8寸和12寸客户的本土光刻胶公司，产品达到世界一流水准，打入中芯国际、长江存储、华虹半导体等国内厂商。
晶瑞股份：晶瑞股份的产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池材料和基础化工材料等。

光刻胶领域：子公司苏州瑞红作为国内光刻胶领域的先驱，规模生产光刻胶 30 年，产品技术水平和销售额处于国内领先地位。 i 线光刻胶已取得了中芯国际天津、扬杰科技的供货订单；高端KrF（248nm）光刻胶完成中试，建成了中试示范线。
南大光电：公司成功自主研发出国内首支通过客户认证的 ArF 光刻胶产品，两次通过客户认证。公司目前已经建成 25 吨生产线（5 吨干式和 20 吨湿式）在光刻胶国产化的大趋势下，光刻胶业务将带动公司业绩迈入新的成长空间。
4、CMP抛光材料
CMP抛光材料、靶材国产化程度最高，部分产品技术标准已到达世界一流水平，本土公司已实现批量供货。
抛光液和抛光垫是CMP抛光的主要材料，属于高价值易耗品，毛利高，认证时间长，客户黏性强，竞争格局也相对较好。产品价值上，抛光液高一些，占总材料成本49% ，抛光垫占33% ，其他材料合计不到20% 。
安集科技：国内抛光液龙头，目前安集科技在国内没有对手。国内市场份额超过20% ，仅次于卡博特。抛光液的技术含量很高，且由于其专用性，绑定大客户后未来增速也很有保证。
鼎龙股份：国内抛光垫龙头，主要是做打印复印耗材的，近年来开始布局半导体材料，抛光垫去年开始放量。成为长江存储的一供，对中芯国际也持续放量。
5、高纯湿电子化学品
超净高纯试剂是指主体成分纯度高于99.99%的化学试剂，主要用于芯片的清洗、蚀刻等制造领域。
江化微：国内湿电子化学品龙头，打破国外企业限制壁垒，逐渐实现中低端市场的国产化替代。其超净高纯试剂、光刻胶配套试剂产品具备为平板显示、半导体、光伏等领域提供全系列湿电子化学品能力。
晶瑞股份：超净高纯试剂占其营收的20% 。超纯双氧水、超纯氨水及在建的高纯硫酸等主导产品已达到G5等级，其它高纯化学品均普遍在G3、G4等级。
6、靶材
江丰电子：国内高纯溅射靶材行业龙头，目前已可量产用于90-7nm半导体芯片的钽、铜、钛、铝靶材，其中钽靶材在台积电7nm芯片中已量产， 5nm技术节点产品也已进入验证阶段。
（三）制造设备
半导体景气周期有着“设备先行、制造接力、材料缺货”的传导规律。中国大陆迎来投资建厂热潮，对半导体设备的需求也水涨船高。今年上半年，半导体设备的同比出货量相比去年增长了50% ，设备制造商接单不暇。
由于半导体设备技术壁垒高，研发难度大、周期长，是整个产业中最关键的环节之一。因此要实现我国半导体产业链的自主可控，半导体设备至关重要。

半导体设备价值含量高，投资占晶圆厂建设投资 75-80% ，当前我国内半导体设备自制率仍较低， 2020年国产化率约为16% 。但部分领域国内厂商打破空白，技术不断追赶。

北方华创：国产半导体设备的绝对龙头，平台属性强。体量大；研发实力强属于国内一线；市占率领先，刻蚀设备国内市占率7% 。产品线丰富，产品涵盖热处理、刻蚀、薄膜沉积（PVD、CVD）、清洗等设备。硅片设备-热处理设备-光刻设备-刻蚀设备-离子注入设备-薄膜沉积设备-抛光设备-清洗设备-检测设备