没必要太担心，中国光刻机没有想象中差劲，如今仅次于荷兰ASML？( 二 )

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海外巨头相继示好，与中芯国际等签署协议。
刻蚀机作为半导体行业的核心设备，中微半导体基本实现了14nm、28nm工艺设备的量产。
【没必要太担心，中国光刻机没有想象中差劲，如今仅次于荷兰ASML？】目前已经具有实力制作5nm工艺的刻蚀机，并且得到了台积电的大力支持。虽然与荷兰ASML公司依然差距甚远，但是我们没有放弃，而是不断打破核心技术受到垄断的局面。
上海微电子、中芯国际等国产企业取得的进步，其实ASML公司等光刻机巨头都是有目共睹的。为了避免失去光刻机市场， ASML公司甚至主动示好，要求美国有关部门放宽出口限制。
除此之外，一些在国内市场布局的售后公司与中芯国际签署了延长采购协议，想方设法向中芯国际等提供EUV光刻机。

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上海微电子、中芯国际等国产企业纷纷行动，就光刻机受到垄断展开部署，目前我们已经在光刻机领域取得重大突破，并且超越了日本的佳能、尼康，排名仅次于荷兰ASML公司。
因此，我们不必过于担心，因为国产光刻机没有想象般的差劲。对此，你有什么看法吗？