5nm|自研率超80%，国产蚀刻机突破技术壁垒，卡住台积电5nm生产线

【 5nm|自研率超80%，国产蚀刻机突破技术壁垒，卡住台积电5nm生产线】在芯片制造过程中，除了离不开广为人知的光刻机之外，还需要一项重要程度不亚于光刻机的核心设备，那就是蚀刻机。而我们国内虽然在光刻机领域严重受制于国外供应商，但是国产蚀刻机却突破了技术壁垒，并且还能卡住台积电的5nm生产线。

那么蚀刻机到底是一种怎样的设备呢？国产蚀刻机又是如何实现逆势崛起，达到全球顶尖水平的呢？
蚀刻机的重要性
其实蚀刻机说起来与光刻机差不多，都是一种尤为关键的半导体设备，能在芯片制造环节中发挥出不可替代的重要作用。芯片生产主要有三个核心步骤，分别是光刻、刻蚀和沉积，其中光刻需要的就是光刻机，而刻蚀则仰仗蚀刻机。

可能平时大多数人都比较关注光刻机，而对蚀刻机没什么印象，这是因为光刻机是国产芯片最大的短板，近几年随着国内对芯片产业重视程度的加强，光刻机自然也受到了广泛的关注。
然而需要注意的是，蚀刻机的重要性与光刻机是在同一水平上的，半导体行业普遍认为，没有光刻机，芯片制造过程就无法完成，但如果只有光刻机而没有蚀刻机，那么同样造不出芯片。这是各大芯片代工厂用几十年的经验得出的结果，蚀刻机不可或缺。

就拿台积电来说，作为全球排名第一的芯片制造商，其使用的技术和设备，无疑都是同类产品中最先进的。例如ASML的EUV光刻机，每年都优先供给台积电，但是在蚀刻机方面，台积电却会被国产厂商卡脖子，其5nm生产线需要国产蚀刻机的参与。
尽管国内的光刻机产业不怎么发达，时至今日连一台EUV光刻机都不曾拥有，但蚀刻机却是国产技术的强项，国外的技术壁垒已经被彻底打破了。而这方面的优势，将成为国产芯片的核心竞争力，能够推动国内半导体事业的进一步发展。

尤其是最近两年，美国越发地变本加厉，不仅禁止美企向华为等国产公司提供芯片产品，还要求那些含有美企技术的厂商，在出货之前都必须申请相应的许可证。这种局面直接导致国产芯片面临了很大的压力，现在只有坚定不移地自主研发，才能迎来转机。
而就这么多年的情况来看，国内对芯片的研究已经很深入了，技术层面并不逊色于国外厂商，像华为海思、中芯国际等，都是全球顶尖的半导体巨头。但唯独在半导体设备方面，由于国外长期的技术垄断和人才封锁，国内始终未能取得较大的突破。
其中光刻机就是最明显的例子，如今国内最先进的光刻机，不过才28nm精度，离ASML的EUV光刻机，还有很大的差距。因此，当前国产芯片最需要解决的问题就是设备方面的短板，国产光刻机和蚀刻机，都是必须要攻克的目标。

好在国内的半导体公司也没有闲着，在举国支持发展芯片技术的大环境下，再加上自身的努力研发，它们终于突破了蚀刻机的技术壁垒。这对于国产芯片事业而言，可以说是一次壮举，有了国产高端蚀刻机，就不用再依赖国外供应商了，甚至还能对台积电进行卡脖子。