光刻机|中国速度再上演，突破EUV光刻核心技术，低代码或将成为新风口

导读：中国速度再上演，突破EUV光刻核心技术，低代码或将成为新风口

近两年来，由于华为受制裁的原因，使得“芯片”2字成为时下自带流量的热点词汇，始终牵动着14亿国人的心

中芯国际
然而很多外媒，对中国芯片的看法，还是停留在“比较落后”的思想层面上。纵使这是我们不愿看到的，可我们不得不承认，国产芯片与发达国家之间，仍然存在着一定的差距。
就拿时下主流芯片——硅基芯片来说，由于该类型芯片的制造工序极其复杂，需涉及集成线路图的设计、蚀刻、光刻、离子注入及封测等步骤，才能从一堆融合的沙子里面，提取出纯度高达99.999%的硅晶圆，最后应用于各式电子设备上。

中国芯片
我们必须深刻意识到，半导体领域上面，中、日、韩和欧洲掌握着垄断性的技术、设备，以及化学材料。如：欧洲掌握着光刻机制造、日本垄断着光刻胶、韩国拥有芯片的先进制程工艺，美国则执掌工业软件EDA。
你或许不知道，这些国家为了阻碍中国科技的发展，早在上世纪，就签署了《瓦森纳协定》，协定上面明文暗意：禁止向中国出口核心关键技术，同时这也成为我国科技发展老被“卡脖子”的原因。

瓦森纳协定
归根结底，即使国产企业掌握着极其先进的芯片设计能力，和芯片制程工艺，也很难独自造出高端芯片，更别说量产了。

不过，中国怎么可能是被轻易打败的呢？就在苏炳添打破亚洲纪录，以9秒83的中国速度，成为闯进百米10秒大关的东亚选手之际，科学家们也随之上演中国速度，突破EUV光刻核心技术!
据央视的近日报道，由中科院高能物理研究所包揽的国内首台高能同步辐射光源设备，开始安装，安装完成度已达70%！而此时，与中科院立下“军令状”——以最短的时间，攻坚EUV光刻技术，制造出国产EUV光刻机，相距不足2年。

相信很多关注光刻机的朋友都知道，EUV光刻机，由双工作台、光学镜头，以及光源三大核心组件构成。
而中科院现在突破了双工作台，清华大学此前攻克了EUV光源技术，目前，我国唯有光学镜头未能攻克

科研人员在研制EUV光刻机
值得一提的是，现在世界上唯一能够生产，EVU光刻机上的光学镜头的，只有德国蔡司一家公司，相信随着中科院在国内的首台高能同步辐射光源科研设备安装及透镜镀膜装置的投入使用，一定程度上可以，缓解国内企业对光刻机镜头的压力。
【光刻机|中国速度再上演，突破EUV光刻核心技术，低代码或将成为新风口】但，传统的工业生产模式普遍存在高能耗，低产能的特点，如果国产芯片也沿用传统工业生产模式的话，那将很难破局。

如何实现国产芯片生产环节的降本增效呢？我想，没有比低代码更加合适的“人选”了。
低代码领域，近年来发展迅速，在赛道上甚至跑出了10亿美元估值的独角兽OutSystems，巨头企业西门子、Oracle、Microsoft、Google、AWS也纷纷推出低代码产品，或者向其抛出橄榄枝。