索尼|声音很刺耳，首台国产SMEE光刻机搬入厂房，有人反问“几厘米”？

【索尼|声音很刺耳，首台国产SMEE光刻机搬入厂房，有人反问“几厘米”？】

半导体产业的发展，本来就非一朝一日，这不仅需要资金投入，人才培养，同样也需要时间。幸运的是，在国内工程师的努力下，国内的半导体技术正在突飞猛进，相关设备也如雨后春笋般的下线调试。近日由青岛新核芯科技研发的SMEE光刻机正式下线，并进入车间调试，除了欢呼雀跃的庆祝，也有格外刺耳的质疑，这台设备能达到多少纳米的精度？

根据已知消息，在合作方的共同见证下，这台设备已搬入青岛的车间，进入调试阶段。如果项目进展顺利，将于10月份具备生产能力，年产能达到36万片晶圆，工艺制程大概在65-90nm 。对于处于发展阶段的半导体技术，是多少纳米并不重要，重要的是有没有关键技术，有没有能够国产化的设备。

曾有院士公开表示，我们实现国产化的28纳米工艺，远比进口5纳米技术，更具价值。虽然此次公布的SMEE是属于封装设备，但这无疑又是国产化的重要一步。好饭不怕晚，当前阶段，不能好高骛远地紧盯高端芯片，连饭都还没吃饱，又何必想着每日能山珍海味呢？从“0”到“1”的是质变，解决了有和没有的关键问题，未来工艺的提升，才是技术不断进步的量变。

相比日韩等科技强国，我们在半导体领域本身就不具备优势，但这也是机遇，我们拥有更多的想象空间和潜力，台积电的5nm工艺，也不是三五天就实现的，台积电的设备、原材料、技术来自全球，这种优势，我们难以比拟。相反我们的原材料得自己生产，设备要自己造，技术要自己突破，挑战摆在面前，又何必自欺欺人呢？

所以既然关心国产半导体的发展，就应该从更高的角度去包容和支持，而不是盯着多少纳米这样的细节。对大多数人而言，也不懂芯片制造的各种工艺参数变化，究竟代表着什么，既然不懂，就不要断章取义，仅从工艺制程上，就否定工程师们的成绩。在2025年，国内的半导体自给率，将达到70%左右，这不仅是目标，也是任务，作为普通吃瓜群众，我们应该对当前的成绩给予肯定，而不是“泼冷水” 。