最后 , 台积电正在通过新技术、新材料以及新的封装工艺降低对ASML的光刻机的依赖 。
例如 , 台积电在2nm芯片上用自研了15年之久的 Nanosheet / Nanowire 的晶体管结构 , 并将采用二维材料做晶体管以及“3DFabric”封装技术 。
简单说就是 , 台积电用技术弥补设备的不足 , 当年就用DUV光刻机量产了7nm芯片 。
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