光刻机|美国封锁失败！国产EUV光刻机迎重大突破，阿斯麦尔总裁：最多3年( 二 )

美国对中国进行的光刻机封锁，效果还是显而易见的。比如在2019年力压苹果取得全球销量第二的国产手机品牌华为，由于被美国实行芯片禁运，而出现芯片荒，如今已经掉出了全球前五。如果说，中国能自行研发高精度芯片，也就不会出现国产企业被美国轻易打压这回事了。
不仅仅是智能手机，在如今信息化时代，航空航天、人工智能、国防建设等领域，哪个能离得了高端芯片？从过去的经验我们知道，当外部对中国进行技术封锁的时候，中国往往选择靠自己打破封锁，这一次的EUV光刻机也不例外，长春光机所也早就开始进行相关技术储备。
长春光机所全称是长春光学精密机械与物理研究所，是中国光学设备技术研究实力最雄厚的一家研究所，始建于1952年。这家研究所称参与过中国的“两弹一星”工程以及“载人航天工程”等多个重大项目，因此研制EUV 光刻机的重任自然落到了长春光机所肩上。
早在2002年，也就是阿斯麦尔研制EUV光刻机的第三年，长春光机所就意识到了这种设备对未来社会发展的必要性。当年，长春光机所便研制出中国第一套EUV光刻原理装置。
【光刻机|美国封锁失败！国产EUV光刻机迎重大突破，阿斯麦尔总裁：最多3年】2016年，长春光机所又成功研制出波像差优于0.85纳米 RMS的两镜EUV光刻物镜系统。
2017年，32纳米线宽的13.5纳米极紫外光EUV光刻曝光系统通过验收，为研制高端EUV光刻机打下基础。

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因此今天中国EUV光刻机的突破并不是偶然性事件，而是经过了近20年的耕耘，所谓皇天不负有心人。当中国研制出一台属于自己的光刻机时，美国封锁便宣告失败，那这又需要多久呢？荷兰人倒是给出了答案。
在不久前举办的2021年中国企业未来发展论坛上，北京大学经济研究院院长林毅夫就转述了荷兰阿斯麦尔总裁彼得．温尼克的一段话：
若不把光刻机卖给中国，最多3年后，中国将掌握这项技术，而只要中国掌握这个技术，生产成本就会十分低廉，那时阿斯麦尔可能就退出了世界光刻机市场了。
另外温尼克还警告：中国本身就是一个庞大的市场，与中国市场脱节就是与经济过不去，如果“敏感科技”输出上对中国上管太严，最终拖累的将是欧洲产业。真正要在技术上一直领先中国的话，需要的是创新，而不是限制。
可见对于美国封锁中国光刻机，即使是荷兰公司也是很不满意的，一方面这项政策完全是为美国政府利益服务，对于阿斯麦尔公司而言只是失去了订单，得不偿失。另一方面，中国屡次依靠技术攻克打破封锁，导致西方企业最终在市场落败的事例，也让不少西方企业认识到中国的确是有技术潜力的，一昧去封锁搞不好会倒逼中国技术进步，让自己失去优势。
而对于中国而言，挑战与机遇并存，能否抓住机会一举打破封锁，也关乎着中国的未来！（子文）