单日产能达10亿颗,首台中端光刻机投产,留给台积电的时间不多了

最近一段时间，上海微电子的28纳米光刻机正式落地，这对于我们而言当然是一个好消息，这台光刻机的落地，意味着中国光刻机已经进入到了中端环节之中，而在未来，我们将会向着更高端的光刻机去进行探索
中端光刻机迎来突破
与荷兰asml的duv光刻机性能相似，并且通过多次曝光的形式，也是能够制造出7纳米芯片来的。

与荷兰asml的duv光刻机性能相似，并且通过多次曝光的形式，也是能够制造出7纳米芯片来的。
所以这就使得这台光刻机更加意义重大，一旦中国能够完成光刻机上面的突破，那么在芯片制造的问题之上，中国完全可以自给自足，在28纳米， 14纳米，甚至是最先进的7纳米芯片之上都能满足自我的需要，这对于国内半导体未来的发展来讲，又打了一剂强心剂，同时也意味着国内所定下的到2025年之前完成70%自制自给率的目标越来越近了

除此之外，在7月份还传来一个消息，截止到今年6月份为止，国内芯片月产能已经达到了308亿颗，这也就意味着目前国内国内芯片单日产能已经达到了十亿颗，虽然半导体领域回报周期长，但是要知道这个领域你投入多少，就会有多少的回报道歉，我们在该领域之中投入了估计其数的资金，以及人力物力财力精力，也相信在未来我们将会收获更多。
留给台积电的时间不多了
作为如今国家发展的命脉之一，芯片的重要性不言而喻，谁能够在半导体领域占据优势，那么谁就会成为接下来的领头国家。中国会在这么短的时间内，做出这样的成绩，这一点是让美国万万没有想到的

在芯片禁令实施之后，中国居然爆发出了这么强大的实力，而中国半导体的崛起，将会引起全球半导体格局发生巨大的变化，另外，中国半导体的崛起，还将会影响台积电

截止到现在为止，台积电虽然已经是亚洲市值第一，但是要知道现在的台积电，早就没有当初的台积电那样的年轻有冲劲，台积电坐在第一大代工厂的位置实在是太久了，也是时候该出现一家企业来撼动其位置了

伴随着国产28纳米光刻机的落地，以及单日产能达到10亿颗，国内半导体不断传来好消息，台积电留给台积电的时间也不多了。如今芯片制程已经发展到了2纳米，在接下来的1纳米之后，将会彻底打破摩尔定律的物理极限

一旦打破摩尔定律的物理极限，那么在接下来的发展之中，芯片的发展将会陷入到一种冗长的困境之中，如果在短时间内不能够找到一种新的材料，去替代传统的硅基材料，那么在接下来的发展之中，全球半导体将会陷入到一种停滞不前的状况中。

而如今国内在成熟制程之上正在不断追赶追赶，而在先进制程之上，虽然没有办法能够做到像台积电影一样制造量产出3纳米、5纳米这种先进芯片，可是在最新材料之上，我们却迎来了不断的突破。