技术|光刻机技术的难点在哪？为何中国始终无法突破封锁？答案让人心安

想必大家都知道，自新中国成立之后，我国致力于在全领域自主性的苦心钻研。当然，时间是一切最好的证明，经历几十年的艰苦奋斗，我国已经成为全球第一大经济体，而且在诸多领域“拍马赶上”，甚至完成了弯道超车。无论是歼-20、002号航母等代表的军事领域，还是比亚迪、奇瑞、红旗所代表的中国汽车领域，乃至华为等公司代表的手机领域，都有非常显著的提升。

当然，即便中国已经有了翻天覆地的变化，但依然存在很多问题。比如半导体、光刻机、芯片等领域的卡脖子问题。就拿光刻机来说，很多朋友认为中国进步的速度非常缓慢，为何光刻机技术在中国如此难发展？其实这句话有些太过于片面，如果从客观角度出发来看，中国光刻机领域的发展速度真的不算慢，甚至超越了美俄等国。

中国在前沿科技领域起步较晚，甚至连想法的构思都比西方国家晚了大几十年。但我国上海微电子目前已经可以生产出90nm工艺的光刻机，中芯国际所推出的N+1、N+2等技术也基本接近了台积电的7nm工艺。难道真的能说中国发展慢吗？就拿华为来说，即便在美国的制裁之下，依然可以依靠中芯国际完成最尖端手机的研发。所以综合来看，中国的发展速度真的不算慢，而且我们还面临一个最严重的问题，就是技术封锁。

目前全球最顶端的光刻机当属荷兰ASML的7nmEUV工艺光刻机，但是大家要知道，荷兰真有如此强劲的实力？与其说这是荷兰的光刻机，不如说是全球的光刻机。从软件到硬件，基本融合了世界各国最顶端的技术，所以说荷兰所扮演的角色只是融合者而已。

而中国生产的光刻机，可以说是货真价实的国产制造。想必大家也听说过《瓦纳森协议》，这个协议最主要的一点就是西方国家对我国光刻机技术输出的制裁。在没有任何人的帮助下，我国就利用逆向技术、自主研发技术迎难而上，依然研发出较为先进的光刻机，你说西方国家能不着急吗？所以说西方国家现在的封锁和制裁，最多只能延缓中国进步的速度，但根本阻止不了中国变强，因为这已经是无法撼动的结局。
【技术|光刻机技术的难点在哪？为何中国始终无法突破封锁？答案让人心安】（文/轩仔）