光刻机|关于EUV光刻机等，中芯国际表明态度了

【光刻机|关于EUV光刻机等，中芯国际表明态度了】

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要想生产制造先进制程的芯片，必须用到ASML的EUV光刻机，因为其是目前唯一能够用于生产制造7nm以下芯片的光刻机。
但由于美国以及ASML自身的原因，导致EUV光刻机出现了供货问题，一方面是ASML不能自由出货，另外一方面是EUV光刻机产能不足。
据悉，台积电一家就拿走了七成的EUV光刻机，三星想要更多EUV光刻机， ASML因为没货，不得不在韩国建设EUV光刻机再制造工厂。

另外， ASML还积压了大量的EUV光刻机订单，多达几十亿欧元，国内中芯国际的订单， 3年了还没有发货。
其实，对于EUV光刻机，中芯国际也是希望尽快获得，否则，中芯国际也表示，蒋尚义再次回归，将会加速EUV光刻机等设备的到来。
而且，对于中芯国际而言，有了EUV光刻机， 7nm、5nm等芯片技术也会早日突破，缩小与台积电、三星之间的差距。

没有想到的是， ASML虽然表态欲加速向中芯国际出货EUV光刻机，但却将新一代EUV光刻机优先供货英特尔，还将启用在美的新办公大楼，这无疑是表明了态度。
在这样的情况下，中芯国际也表明态度了。
据悉，中芯国际梁孟松和赵海军公开发表评论称，中芯国际进一步在逆境中成长，成熟工艺产品的风险进一步降低。
另外，在先进工艺制程芯片上，中芯国际也会一步一个脚印，提高产品竞争力等。
虽然在中芯国际是针对芯片表态的，但实际上，也是就EUV光刻机等表明了态度。

首先，中芯国际表态称成熟工艺产品的风险进一步降低，这意味着28nm等成熟工艺芯片的生产制造受美国影响进一步降低，甚至是完全不受美国影响。
即便是没有ASML的DUV光刻机，也可以生产制造，这因为中芯国际可以用国产设备生产制造成熟工艺的芯片。
更何况，国产全新一代光刻机预计在今年底或明年初下线，其也是沉浸式光刻机，能够用于7nm以上制程芯片的生产。

再加上，国产光刻胶等已经用于生产7nm芯片，用于28nm等芯片自然是完全没有问题。
最主要的是，国内专家已经明确表示，国产28nm芯片今年年底量产，这意味28nm等成熟工艺的芯片生产线实现了完全国产化。
其次，在先进制程芯片上，虽然没有EUV光刻机，生产制造难度会增加，但中芯国际依旧会一步一个脚印往前走。
即便是没有EUV光刻机，中芯国际仍会研发、制造先进制程的芯片，利用DUV光刻机，在多次曝光工艺下生产制造7nm芯片等。

另外，中芯国际也在发展先进的工艺等，利用先进封装工艺弥补芯片制程上的不足，再加上，中芯国际还有后续的N+2工艺，甚至N+3工艺等。
最后，在EUV光刻机等设备上，中芯国际坚持购买，但不一定是需要向ASML购买，国内厂商的光刻机也是中芯国际采购的对象。
虽然国内暂时还无法生产制造EUV光刻机，但国内厂商正在分步击破EUV光刻机等技术，其中，光源技术已经有所突破，新材料技术也实现突破。

一旦国内厂商实现全面突破，自主量产了EUV光刻机等设备，中芯国际自然就选择国内厂商的设备。