好在自从美国规则生效后，国内便开始自己研发光刻机技术，虽然这项设备很难很难，但是在国内众多科研工作者的努力下，将来未必不能取得突破。况且连ASML总裁都非常看好国内，他认为不出三年国产光刻机就会达到高端水平。



写在最后
ASML发布的新一代EUV光刻机，一台价格高达9.3亿元，这便是技术足够先进所带来的好处。希望接下来国内对光刻机的研发工作能顺利进行，让国产半导体公司彻底摆脱国外进口，并且促使国产芯片实现真正的崛起！
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