南大光电|南大光电光刻胶通过国家验收，可用于中芯国际7nm工艺( 二 )

如今的中芯国际在芯片的制程工艺上取得了较大的进展，从28nm到14nm，再到即将突破的7nm，如果中芯国际成功了，那么中芯国际将会成为全球第三家掌握7nm芯片制程工艺的企业。当前全球只有三星和台积电掌握了这个技术，就连美国的英特尔都没有实现突破，据悉是突破在即，有望在明年实现。

上海微电子已经将国产光刻机进行了量产交付，而南大光电也已经实现光刻胶的突破，那么就有希望打造出一条完全自主化的成熟工艺生产线，而且有专家预测，明年有望实现14nm芯片生产线的完全自主化，7nm芯片生产线的自主化也是极有可能实现的。

写在最后
中国的芯片半导体领域已经正在崛起，而且速度极为迅猛，是难以被阻止的，相信7nm及其以下的高端芯片的制程工艺也会在不久之后实现突破，我国的芯片半导体行业的发展壮大还需要国内的各大企业齐心协力，只有这样，才能让我国在全球芯片半导体领域掌握更多的话语权。大家对此怎么看？欢迎留言评论！