光刻机|比光刻机还难造？90%全球市场被垄断，国产巨头一举打破垄断

【光刻机|比光刻机还难造？90%全球市场被垄断，国产巨头一举打破垄断】

光刻机的难点在大多数人的印象中，半导体领域最难攻克的核心设备非光刻机莫属，因为它被誉为“人类工业皇冠上的明珠” ，全球范围内能够造出光刻机的厂商屈指可数。而且直到现在，国内都不曾拥有一台高端的EUV光刻机，这直接导致国产芯片进展缓慢。

从某种意义上来说，国内在半导体设备方面的短板，主要就集中在光刻机上，如果国产半导体公司拥有充足的光刻机，那么芯片的自给自足就不是什么难事。正是因为考虑到了这些因素，近几年国内才会大力研发国产光刻机，只可惜进步速度不是很快。

就目前来看，国内最大的光刻机厂商是上海微电子，由它生产出来的最先进的光刻机，达到了28nm精度，可以满足大部分中低端芯片的制造要求。虽然这对于国内来说，已经是不错的成绩了，但必须要承认的是，国产光刻机与国外同类产品相比，还存在很大的差距。

比如说全球最顶尖的光刻机巨头ASML ，只有它能够造出EUV光刻机，而7nm和5nm等先进制程芯片的生产过程，都离不开EUV光刻机的参与。因此，在光刻机领域，国内还有很长的路要走，什么时候能赶超ASML ，才说明国产光刻机真的崛起了。
其实国内也曾想过向ASML进口EUV光刻机，但碍于相关协议和美国规则的影响，始终未能如愿以偿，所以时至今日连一台EUV光刻机都没有。既然买不到，那么国内就只能自己研发了，这也是当下国产半导体公司最主要的目标之一。

比光刻机还难造的设备对于光刻机的重要性和难度，相信大家都有所了解，但是殊不知，在整个芯片产业链中，还有一项关键设备，其难度比光刻机更高。而且之前全球90%的市场都被垄断了，国内对它的需求比光刻机还要高，直到近几年情况才得到改善。

这项设备指的就是离子注入机，与光刻机具有相同的重要性，也是芯片制造过程中不可缺少的核心机器。可能很多人都不相信，离子注入机比光刻机还难造？这并不是夸张的说法，而是多年以来半导体行业公认的事实，千万不能掉以轻心。
据了解，之前在离子注入机领域，全球90%以上的市场份额，都掌握在应用材料和亚舍利这两家公司手里，而它们本质上都是美企。也就是说，美企几乎垄断了整个离子注入机市场，其它半导体公司要想获得供应，必须从美国进口。

这对于国内来说，显然是无法接受的局面，因为美国的态度世人皆知，国内不太可能轻易获得离子注入机这项关键设备。为此，摆在国产公司面前的道路就只有一条：坚定不移地自主研发，只有将技术掌握在自己手里，才不会被外界“卡脖子” 。
所以近几年来，国内开始专注于离子注入机领域，通过不断地努力和奋斗后，终于取得了一些突破。而目前来看，有一家名为凯世通的国产企业，一举打破了美企对离子注入机市场的垄断，为国内的半导体事业提供了很大的帮助。