据公开资料显示 ， 大族激光制造的光刻机分辨率为3-5μm ， 主要用于5G通信基站分立器件、LED、Mini/Micro-LED的生产和制造 。
除此之外 ， 大族激光研制的芯片封测核心设备 ， 如晶圆开槽设备、切割设备等设备 ， 核心元器件的国产化也达到了90％以上！
前不久 ， 国内唯一光刻机制造企业上海微电子正式对外宣布 ， 28nm光刻机已经下线 ， 将于年底交付给下游厂商 。 值得一提的是 ， 上海微电子制造的28nm光刻机经过技术改进后 ， 可以生产14nm芯片 。

虽然国产光刻机与ASML公司制造的光刻机存在着一定的差距 ， 但笔者坚信 ， 随着中国科学家的努力 ， 在未来的几年内 ， 我国必定能够制造出EUV光刻机 ， 彻底打破老美的芯片封锁 。

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