冲破日本封锁！国产7nm光刻胶正式落地，中芯国际却拒绝使用？

在通信技术领域，美国高通等企业一直是行业的“霸主” ，得益于此，美国不仅每年向全球各地区收取着巨额的专利费，而且还能利用自家企业的设备后门窥探他国机密。然而，随着华为5G的崛起，失去市场主导权的老美，再也没有了这种便利。

很显然，我国高科技的快速崛起冲击到了老美的行业优势，但是，这却给老美敲响了警钟，为了避免更多的领域被我们反超，于是它便采用科技“霸权”的方式，修改规则，断供我们的“工业粮食” ，芯片！
由于长期依赖进口，导致我们在面临芯片困境之时几乎没有还手的余地，不得不承受“卡脖子”之痛。华为曾经超越苹果、比肩三星的智能手机业务，因为无芯可用而几乎淡出了竞争行列。

不过，好的一方面是，芯片断供让我们认识到了技术自研创新的重要性，坚定了我们自主造芯的决心；而老美无底线的打压，更是激起了我们的民族危机意识。
于是，科技企业与科研机构开始团结起来，加大研发、一致对外，许多网友甚至以身作则，自发地响应支持“去美化”的国产化替代。

【冲破日本封锁！国产7nm光刻胶正式落地，中芯国际却拒绝使用？】功夫不负有心人，在我国科学家们的不懈努力下，仅短短两年时间，国产芯片产业就取得了巨大的成果。许多被美垄断的技术设备，比如湿法设备、光刻设备、蚀刻设备等等，都迎来了破冰。而“中国芯”更是以10亿枚芯片的日产能，成功地在中低端芯片领域站稳了脚跟。
按照如今“去美化”的推进速度，我们迈向高端芯片市场指日可待。
然而，万万没想到的是，在“中国芯”崛起的关键时刻，日本却落井下石，要在化学材料方面对我们实施断供。而日本的信越化学公司更是公开表态：未来将不会再向大部分中企提供高端Arf、Krf光刻胶。

要知道，虽然光刻胶在芯片整个制造链中仅有1%的市场比重，但它却的作用却是无可替代的，在一定程度上决定着芯片制造的良品率与性能。
在该领域，日本垄断了全球大约90%的市场份额，而我国市场的自给率却不足5% ，几乎是空白的。
日本突然断供光刻胶的“撤梯子”行为，给正处爬坡阶段的国产芯片又蒙上了一层阴影，如今我们不仅要面对老美的“封锁” ，还要面对日本的纠缠，这可能会导致国产芯片产业的发展陷入停滞。
令人振奋的是，国产巨头及时地挺身而出，让外界联合阻扰“中国芯”崛起的阴谋再次落空了。
据媒体报道，在7月底，南大光电公示了一项重要资料，该司此前承接国家的《集成电路成套制造装备以及工艺》光刻胶项目，已经完成了所有关键技术的检测认证，且正式通过了验收！

验收的专家组透露，南大光电的此次突破，不仅包含了7nm高端Arf光刻胶产品，而且还打通了产业链上关于“材料配置、配胶、场景应用”等各个环节。
更难能可贵的是，南大光电自研高端光刻胶的预算产能可达到每年20吨的体量！这意味着，国内芯片制造企业所需的光刻胶再也不用从日本进口了！