ASML在华申请3000项专利,却宣布进驻美国,光刻国产之路再添变数?( 二 )

然而，前提是，我们必须研发出有别于ASML的、或者比ASML更先进的光刻技术，只有这样，才有相互抵消专利的资本。就像曾经闹得水火不容的华为与高通一样，也是通过“专利交叉” ，最终才得以和解。

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只不过，华为之所以能与高通和解，是因为华为在通信技术方面有着雄厚的实力。但正处爬坡阶段的国产光刻水平，显然与ASML还有不小的差距。
很显然，老美与ASML设置的这道专利壁垒，会让国产高精度光刻机的研发之路变得更加艰难，我们也必须付出比原计划多出数倍的努力才行。
但是，世上无难事只怕有心人，再尖端的设备技术，也是由人创造的，而非神创造的，专利同样如此。我们完全有理由相信中国科学家会冲破所有封锁，让西方的“围剿”适得其反。
【ASML在华申请3000项专利,却宣布进驻美国,光刻国产之路再添变数?】回顾我国科技的发展历程，会发现，我们早已习惯了攻坚，即便EUV再难，又岂难得过“核武”与“航母”？