光刻机|国产EUV技术面世之后，ASML光刻机在国内市场会被清零？

今年年底，国内有望实现28nm光刻机商用，至少可以应用到14nm芯片制造上。未来光刻机的研发重点，落在了EUV技术上，一旦实现将使中芯国际、华虹半导体等企业，拥有制造7nm以下芯片的潜力。对于纯商业光刻机企业而言，想在EUV技术上投入研发，与ASML公司进行公平竞争，这将是一个难以实现的事情。即便实现了EUV 技术的突破，也会在盈利方面，面临不困境。
【光刻机|国产EUV技术面世之后，ASML光刻机在国内市场会被清零？】

目前， ASML EUV光刻机的主要市场，来自于台积电、三星等公司，国内市场处于空白之中，等于有与无并不影响该公司的未来发展，更不会有生死之宅。国产EUV光刻机企业，想要超越ASML公司，通过向晶圆厂提供技术产品，拥有盈利空间，困难不少。一旦国产光刻机攻破了EUV 技术，那么ASML将多一个竞争对手，进行反击将在所难免。

可以预知的未来，国内有企业解决了EUV光刻机问题，便会遭遇ASML的竞争。相比刚刚起步的国产EUV光刻机企业， ASML可谓是一个老手，拥有三星、台积电两大客户，如果能拿下大陆市场多了一份收入，拿不下也可以利用价格优势竞争，阻止竞争对手盈利。

芯片工艺的进步，需要有企业参与，更需要有市场提供资金，当ASML公司对自身EUV光刻机的利润空间诉求降低，甚至出现零诉求之时，将会给刚刚兴起的EUV光刻机企业，带来生存难题，从而扼杀技术创新，这一点值得警惕。