ASML光刻机落后,国产EUV技术取代,现实难允许

【ASML光刻机落后,国产EUV技术取代,现实难允许】在2020年之前，很少有人意识到，芯片制造的重要性，华为公司原认为，最重要的技术是芯片，并开发了高通芯片的备胎麒麟系列，成立了海思公司，作为专门从事设计的团队攻克难题。到了2020年，华为被美国无限追溯机制影响，失去了台积电、三星等公司，芯片工艺陷入停顿之中。

华为手机、荣耀等品牌被迫分家，美国一度传出众多业务将无法经营的观点。国产芯片面临的难题，经过许多人的反思与总结，最终得到了一致观点认为， euv光刻机才是华为公司面临困难的结症。作为半导体产业中的皇冠， ASMLEUV光刻机的地位不言而喻。台积电、三星等公司，想要达到7nm以下工艺，不得不使用ASML生产设备。

中芯国际具有生产7nm工艺芯片的能力，但是在光刻机上遇到了难题，强行用低端产品替代，生产成本将是巨大的。使ASML光刻机设备落后，用国产EUV光刻机进行替代，已经成为许多关注国产芯片者的愿望。想要使国产EUV光刻机，取代ASML公司，看似只是一个技术问题，背后却是市场问题。

目前， EUV光刻机的需求企业，主要是台积电、三星、英特尔等。全球具有潜力，使用EUV光刻机的企业，不到10家，而前两家使用了最多。如果国产光刻机在技术上，突破了EUV核心零部件制造难题，将不得不面临市场这个现实。中国已经成为全球芯片需求量最大的市场，但是每年3000多亿美元，依赖美国、日本、韩国等企业供应商提供产品。台积电一家企业，在高端市场领域占了全球50%以上的份额，再加上三星已经接近了100%份额，加上高通、苹果、英特尔等公司支持，订单和市场更是不愁。

国产EUV光刻机问世，仅仅是一个时间问题，但是卖给谁才是最关键问题。现在ASML光刻机，已经拿下了所有高端市场，留给国产光刻机的市场空间并不多。如果国产euv光刻机，在全球市场上，无法打入三星、台积电、英特尔等工厂中去，解决了EUV技术难题，也会如花瓶一样，难以与ASML公司展开持久竞争，很容易陷入有产品没有市场的困境之中。