光刻机|国家队发力，EUV光刻机三大核心技术宣告突破，ASML预言成真？

EUV光刻机是我国芯片“去美化”道路上的一大壁垒，在ASML受限于老美出口管制规则而无法出口情况下，我们决定自主研发。
不曾想， ASML却泼来冷水，表示“即便给我们图纸也造不出来” 。在很多人看来， ASML是碍于光刻市场原因，有意在打击我们的研发积极性。

然而，吴汉明院士在第五届数科大会上居然也发表了类似的观点：EUV光刻机是全球智慧的结晶，所含精密零件超过10万个，全球供应商超过5千家，仅凭我们一己之力来研发是不现实的。
这足以证明EUV设备真的很复杂，研发起来的确有难度。
但是，在老美无底线的打压之下，国内半导体市场没有“知难而退”的余地，再难也要上。何况，再尖端的设备也是人造的，而非神造的，海外能做到，那我们就一定可以做得更好。对EUV设备的研发，或许无法一蹴而就，但若是对其核心技术进行逐一突破，显然思路就清晰多了。

EUV光刻机虽然精密复杂，但是它关键的核心技术却只有三个，分别是：光源、双工件台系统和光学镜头。
首先，在光源方面。
清华大学唐传祥教授带领的科研团队，通过SSMB验证的新型粒子加速器“稳态微聚束” ，其波长可从太赫兹覆盖到极紫外光波段，而极紫外光正是EUV的工作光源。
这意味着，在EUV光源领域，我们已经打破了美国的垄断，实现了自主可控。

其次，在双工件台系统方面。
北京华卓精科在清华科研团队的助力下，早在2019年底，就已经突破ASML公司在双工作台系统领域的垄断。其生产的光刻机双工件台主要应用于65nm及以下节点的ArF干式、浸没式步进扫描光刻机、KrF步进扫描光刻机，单台系列产品应用于i线、g线步进扫描光刻机及封装光刻机等
是除了ASML之外，全球第二家掌握该技术的公司。

最后，在光学镜头方面。
有着“国家队”之称的中科院，研发出了国内首台高能同步辐射光源设备，这是全球亮度最高的第四代同步辐射光源之一。该设备不仅填补了我们在该领域的空白，更让我们摆脱了依赖。
据央视报道，该设备目前正在安装阶段，工程总量已完成了70%以上，可以说是落地在即了。

另外，央视报道还提到了另外两项由中科科美取得的技术成果，分别是直线式劳埃透镜镀膜装置、纳米聚焦镜镀膜装置。这两项应用于光刻机镜头的科研成果，将对EUV光学镜头的研发完善提供巨大的技术支撑。
至此，国内市场对EUV光刻机三大核心技术的研发，已正式宣告突破。
或许很多人会问， EUV设备的10万个精密零件该怎么办？其实这个完全不用担心，我国拥有着全球最大的制造市场，零件生产正是我们的强项。而且， EUV零件再多、再精，还能比得过航母？

目睹我国在光刻领域的不断破冰，此前泼冷水的ASML也终于说了实话。 ASML首席官Peter预言，三年之后中国就将主掌握EUV研发技术，十五年时间，就将拥有极为完善的芯片产业链。
事实上这并非“捧杀” ，从国内市场在集成电路产业上做的布局来看， ASML预言或将成真。