国产光刻机EUV技术,取代ASML市场,成本是难点

目前荷兰ASML光刻机技术，已经做到了7nm以下，在EUV技术上形成了自己的垄断地位。未来国产光刻机解决了EUV技术，能不能被市场认可，现在看是一个很大的问题。在光刻机需求市场上， DUV技术是晶圆厂的必需品，真正需要EUV技术的企业并不多。韩国三星、台积电，勉强达到了7nm工艺，像英特尔芯片制造，至今依然停留在10nm、14nm工艺，对EUV技术没有太高的需求。

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【国产光刻机EUV技术,取代ASML市场,成本是难点】根据以往经验，光刻机只有到了10nm以及以下，才会使用euv技术。在10nm以上，特别是28nm工艺上，一台DUV工艺的光刻机，已经可以满足市场需求。现在euv光刻机的真正买家，台积电和三星公司占了大头，两家企业的5nm芯片市场份额占了全球仅90%以上，恰恰因为高端芯片制造工艺的市场份额够足，才为ASML公司提供了源源不断的研发资金，用于EUV技术改进，增加研发资金。

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因为手握欧洲、美国、大陆等三大市场，台积电、三星公司才制造出了7nm芯片，才有了购买EUV光刻机的动力。国产光刻机企业研发了euv技术，可以供应的企业，很可能不是2家，而是仅仅有一家企业。由于韩国和台湾企业的竞争，最终能供应的企业，也许大陆仅有一家是客户。

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如果没有几家全球级别的晶圆厂支持，国产EUV光刻机很容易失去市场，支持新技术更新，造成培养的人才向ASML等公司流失，最终会使机器卖的贵，没有人敢购买，形成恶性循环。 ASML光刻机作为竞争者，面对国产光刻机的入场，很容易选择调低价格，从而留住三星、台积两个客户，加上美国干预定能抓住自己的市场份额。

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光刻机的研发需要资金， EUV光刻机更需要资金，如果没有台积电、三星等企业，对国产EUV技术的采购，其成本很难降下来，最终结果可能继续需要依靠ASML主导光刻机，才能支撑全球先进的芯片工艺研发。