打破技术壁垒!国内成功研制7nm工艺机器!可“侵权”仍在继续!

自从华为遭遇了芯片上的限制之后，越来越多的人关注起芯片制造领域。而在当下芯片制造方面，高端的芯片我们暂时还没有办法制造出。这主要也是因为ASML并不能自由的出高端的光刻机给我们，也正是因此我们才在这一方面无法独立的制造出高端的芯片，面临着被卡脖子的情况。

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但我们发展国产芯片真的仅仅只怕光刻机卡脖子吗？并不尽然，在制造高端芯片当中，除了光刻机还有一个低能的离子注入机也相当的依赖进口。也就是说，如果在未来这一方面我们依旧没有自己的技术，那么就算是有了光刻机，我们还是会有另外的一方面被卡脖子。
幸运的是，在我们国内半导体巨头凯世通的努力之下，终于打破了这一方面的技术堡垒。

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就在近日，据媒体的报道，凯世通研制的可用于12英寸的晶圆(可用于完成7nm、5nm工艺）制造的低能大束流离子注入机已经进入到了生产环节，且已经通过了下游芯片制造企业的技术认证。
值得注意的是，这是我们国内首台低能的离子注入机。这也就意味着，在未来高端芯片的制造这一方面，已经奠定了强有力的基础，我们也将不会被这一技术再卡住脖子。总的来说，这对中国自主芯片发展来说算是一件好消息了。

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而在这个时候，有不少外媒都表示：对中国企业的芯片打压这场闹剧快落下帷幕了。也就是说，其实他们也认为，我们在这一项技术上的突破，足以让美对中国企业的封锁没用了。

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事实上，外媒会有这样的评价个人认为并不仅仅是因为目前这首台的机器出现的原因，更多的可能是因为凯世通的低能离子注入技术水准相当高。要知道，这一项技术在曾经还被美国一个半导体设备商AIBT进行了抄袭。虽说被抄袭是一件让人很不舒服的事情，但是侧面也反应出了他们对这一项技术的认可，证明了凯世通在这个领域上的实力。

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只不过有点气愤的是，虽然对方侵权了，且凯世通也提及了相关的诉讼，也希望和对方以一个更好的方式来和解。但对方还是直接无视，并继续做着“侵权”的事情。到现在，两者之间关于这个事情都还在继续拉扯，也不知道最后会是谁会胜出。
不过这一点不是最重要的，最重要的是这一项技术给我们中国的半导体发展带来了不错的趋势，同时，也给我们中国的芯片制造的自研发带来了更多的信心。相信在更多企业的努力之下，我们会一步步的攻克现在的难关，将更多的核心技术掌握在自己手里。

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【打破技术壁垒!国内成功研制7nm工艺机器!可“侵权”仍在继续!】写在最后
可能有的国外企业分析得对，禁止我们中国的企业只会适得其反，只会让我们处于一个加速前进的局面。现如今随着半导体内频繁的传来好消息来看，我们不难看出这样的分析是有道理的。而在未来，我们还会攻克更多技术暴雷，实现真正的“中国芯、中国造”！
最后，对于此事你们怎么看呢？欢迎留言评论、点赞和分享！