事关国产EUV，日本光刻胶巨头泼冷水，ASML却有不同看法( 二 )
还有前道芯片制造用的DUV光刻机也在突破 ， 据说28nm级别正在改进即将突破 。
重点是EUV光刻机 ， 相关技术已经布局多年 ， 中科院也申请了不少EUV专利 ， 近期还在招聘EUV技术实际操作人才 。 可见 ， 极有可能国产EUV即将进入新的攻坚阶段 。
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对于EUV光刻机 ， 最明白的莫过于ASML了 ， 从近段时间表现来看 ， 其实已开始焦虑了 。 尤其总裁直接表示 ， 限制EUV只会促进中国技术突破 ， 我们将彻底失去市场！
【事关国产EUV，日本光刻胶巨头泼冷水，ASML却有不同看法】EUV光刻机虽然复杂 ， 但只要我们下定决心去突破 ， 相信国产EUV必然会实现！
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