|继造EUV光刻机后，俄又传出新动作，国内院士的呼吁该重视了

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【|继造EUV光刻机后，俄又传出新动作，国内院士的呼吁该重视了】

中芯国际做对了？
台积电已经是量产5nm ，且3nm和2nm工艺也将开始新的工作，现在手机上如果不是5nm工艺的芯片，厂商都不好意思开个发布会，所以很多情况下都以为，现在芯片应该出手就是5nm ，而那些28nm甚至90nm的工艺就是“笨重”、“落后”的代名词，所以这里也就能够理解，当初龙芯总设计师胡伟武表示没必要追5nm、干好当下工艺被喷的原因了，毕竟现在似乎是人手5nm 。

随着美企不断的断供，俄也同样面临着这样的问题，于是俄就开始行动，一个就造EUV光刻机，另一个就是造自己的芯片，但是它的计划就是从90nm开始干起，短期目标是28nm ，要知道28nm工艺台积电在2011年的时候就已经开始做到了，而这是俄在2030年的目标，所以这一刻就更加懂中芯国际的做法了！而国内院士的呼吁，也早该重视！

28nm ，够用！如果说28nm的工艺芯片够用，那肯定会被喷说是不思进取。
但是在去年，甚至是在前年，中芯国际多次布局、增产28nm领域，而台积电，更是欲将在南京扩大28nm的产能，甚至还将月产、扩产速度给提速很多，那个时候一时间多人对台积电的做法表示不满，甚至认为这是在抢中芯的订单。
时间来到2022年4月左右，也就是近期美企不断地对俄采取措施之后。
一些美企的断供咱这里就不多说了，主要就是想说一些半导体方面的事情。
就从现在的情况来看，他们也是很难获得新的芯片“进账” ，那怎么办呢？还是得自己造。
于是俄就传来了两个动作，一个是造芯，一个是造芯所需要的设备，造EUV光刻机。

其实说实话，俄的目标还是挺厉害的，一个目标就对准了EUV光刻机，这台设备其技术难度不用分说，但是据说俄将会采用新的光源来解决这个问题，而就在前不久日企也公布了在3D光刻机方面的成绩，所以这样来看，造EUV光刻机也不是那么没谱的事情。
紧接着就是近期俄宣布的另一个计划，那就是芯片方面的问题。
其现在的工艺还不是很先进，所以就有消息称俄欲将计划在2022年底实现国产90nm芯片，到了2030年实现28nm芯片，其所涉及到的资金更是高达 52 亿美元，当然这里面包括的项目多了去，就不单独说明。
然而这里需要提一下的就是，台积电早在2011年就量产了28nm ，且预计在2026年实现2nm ，所以这样对比，是不是就知道差别了呢？

但是我们的关注点不应该是在这个制程落差上有多大，而是在工艺上，在需求上，在自己的生产线上。
前两年胡伟武就表示，我们应该稳住当下的产线，努力做好手里的事情，不要别人做5nm我们就跟着做，而事实上呢？就比如中芯，在这两年也是疯狂地扩建28nm的产能，因为在需求上， 28nm能够解决很多问题，在工艺上，它不算先进，但也不算老，是一个很好的突破点。
倪光南院士表示， 28nm芯片能够量产，也是能够解决很多科技产品的“换芯” ，或许这也就能够更加明白成熟工艺更为重要的意义吧。