国产EUV光刻机“破冰”，中科院又立功了！( 二 )

我国发展EUV国产化还将面临哪些威胁呢？
今年4月20日，阿斯麦尔首席财务官罗杰·达森在当天公开透露，到2025年的时候，阿斯麦尔将会具备年产70部EUV光刻机的能力。这就意味着未来阿斯麦尔的光刻机产能将会大大极强，意味着未来，在光刻机领域，阿斯麦尔带来的竞争压力也将会增加，这不能说不是国产EUV光刻机发展的威胁。

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另外，我国进行EUV光刻机国产化，这其实就是在挑战，在冲击美国在半导体领域的地位，毕竟国产EUV光刻机一旦成功落地，那么，美国技术将会没有任何的用武之地，中国芯的崛起将会更加势不可挡，美国应该是不会坐视这种情况成为现实，还是很有可能会出手的。
最后，今年4月1日，根据日经中文网报道，日本佳能正在开发用于半导体3D技术的光刻机，曝光面积将会是目前EUV的四倍。之前，阿斯麦尔还成功研发了Na值为0.55的，更加先进的EUV光刻机。

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在经济全球化的今天，这些更加先进的产品未必不会进入我国市场，同样也未必不会在国内，以及国际阻碍我国国产EUV发展的步伐，这显然又是一次威胁。
总结
国产EUV光刻机再度实现破局，再度突破核心关键技术，我国中科院再次为中国芯事业立下不世功勋。当然，虽然进展顺利，我国也并不能就此掉以轻心，当下全球的竞争，特别是在半导体领域，尤为激烈。

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期待着我国未来能够再接再厉，在EUV光刻机国产化领域能够拿到越来越多的拼图，期待着未来，能够完全补上我国在这一领域的大片空白。期待着中国制造能够在这一领域绽放出耀眼的光辉。