光刻机|ASML要慌了！新型光刻机或明年交付，EUV不再是唯一？

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光刻机在芯片生产过程中的重要性是不言而喻的，但是，就这样重要而又必需的设备，如今却牢牢掌握在阿斯麦尔手中，特别是EUV光刻机。但是，恐怕很多人都不知道，曾经的光刻机巨头并非阿斯麦尔。

那么，曾经的光刻机巨头是谁呢？主要是日本的佳能和尼康。之所以阿斯麦尔会脱颖而出，其实还是因为美国出手，让日本陷入了失落的三十年，但是，最近曾经的光刻机巨头佳能也准备发力了，研发新型的，更先进的光刻机，可能在明年就会进入市场。
那么，随着到时候阿斯麦尔的光刻机，特别是EUV光刻机不再是唯一的选择，对阿斯麦尔而言究竟又会有怎样的影响呢？凭借着这台更加先进的新型光刻机，日本佳能真能冲击到阿斯麦尔的市场地位吗？

佳能新型光刻机或将明年交付今年4月1日，根据日经中文网报道，目前佳能正在开发用于半导体3D技术的光刻机，根据佳能预测，这款光刻机新品最早有望于明年上半年上市。这款新型光刻机和阿斯麦尔的EUV是不一样的，采用的是3D技术。
那么，这个3D技术又是什么东东呢？其实吗，这个3D技术就是通过堆叠多个半导体芯片，仅仅堆叠就够了吗？并没有，还要使其紧密连接起来，以此达到性能的提高，这样一个技术。这种使用全新的先进技术的光刻机，和当下的EUV光刻机相比，曝光面积至少是现在EUV光刻机产品的四倍，还可以支持应用在AI上面的大型半导体生产。

从这些介绍中，我们可以知道，日本佳能不愧为曾经的光刻机巨头，多年不出手，一出手就是这样的神仙产品。
3D光刻机据说在光刻时就能实现3D结构，采用堆叠方式直接光刻，从而大幅度提高效率和性能。总之，从这些介绍中，我们可以知道，日本佳能不愧为曾经的光刻机巨头，多年不出手，一出手就是这样的神仙产品。那么，日本佳能的卷土重来，能给阿斯麦尔带来怎样的惊慌呢？

阿斯麦尔慌了！今年2月份，根据路透社报道，因为国际形势的缘故，阿斯麦尔如今正在寻找乌克兰氖气的替代来源。然后就没下文了，可能是阿斯麦尔直到现在都还没有找到吧。本来这没什么，阿斯麦尔如今是光刻机巨头，在EUV光刻机领域处于一个垄断地位。
但是，谁也说不准，阿斯麦尔究竟多久能找到替代，乌克兰的氖气供应多久能恢复正常，这时候，佳能整出这样一台更加先进的新型光刻机，未必就趁着阿斯麦尔目前暂时难以出货EUV的情况下，抢占阿斯麦尔的市场份额。

另外，目前芯片先进制程发展已经即将就要触顶摩尔定律的极限，在这样的时代背景下，今年3月2日，全球十大企业巨头成立了UCIe联盟，主要发力芯片先进封装，同样是在今年，在苹果春季发布会上，苹果M1 UItra首次亮相。这依旧是采用台积电先进封装工艺，将两枚M1芯片封装再一起，在不经意间，验证了华为双芯叠加的设想。