目前华为已经对外宣布 , 后面将会采用堆叠、面积换性能的方式 , 利用国内有限的产业水平 , 来满足目前所需要的芯片需求 , 在该领域 , 华为之前已经申请了多项的技术专利 , 后续肯定会在该领域深耕下去 。
如果能够成功利用即将国产化的14nm芯片 , 通过堆叠的工艺实现不亚于7nm芯片的性能 , 那么华为的芯片问题就将得到解决 , 即便是手机业务也能恢复 , 此前就已经证明了7nm芯片 , 已经能够完全满足现阶段的需求 。
全球都在研发光刻机
在中科院开始布局光刻机技术研发之后 , 国内的高校研究所相继突破了诸多的核心技术 , 同样华为也不断地在努力实现技术突破 , 这也让很多人看到了国产光刻机的希望 。
而根据此前传出的消息 , 作为光刻机鼻祖的日企 , 已经开始恢复对于光科技的研发了 , 而同样在俄企业研究所 , 也正式接收了光刻机研发项目 , 其所采用的X光射线研发方向 , 在实用性上丝毫不比EUV光刻机的极紫外光差!
全球都在致力于“去美化” , 而ASML却怎么也摆脱不了含美技术了 , 一旦国际上组装出了全新的光刻机 , 自然ASML就将失去实际的价值 , 所以外媒的发声是不无道理的 , 对此你们是怎么看的呢?
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