光刻机|俄正式对光刻机出手，华为或成受益者之一，外媒：ASML也做不到

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一直以来，芯片都是我国科技行业的老大难之一，尤其是在华为无法与台积电达成合作，生产麒麟芯片以后，关于芯片的难题则更加凸显了出来。虽然中芯目前有一定的能力制造芯片，但一来没有EUV光刻机设备，二来用到的也并非是国产化技术，所以并不能帮得上华为。

国产光刻机迫在眉睫，但仍然需要时间尽管目前有消息表示国内相关部门正在研发光刻机设备，但短时间内很难有所突破。不过让很多人没有料到的是，另外一件事情的出现，让光刻机技术“去美化”又一次成为了焦点。

众所周知，自从2月末开始，俄当地市场就受到了多家企业的停止供货，其原因我们也都知道。而终止合作的企业就包括三星、台积电等芯片制造公司。所以在这种情况下，当地的芯片制造问题也成了难题，其中也包括光刻机设备。对此，俄也开始针对光刻机行动了。

俄针对光刻机出手根据消息表示，目前俄相关技术学院已经接下了光刻机的项目计划，开发全新的光刻机设备。甚至根据相关人员表示，该光刻机虽然不是ASML公司的EUV光刻机，但是却可以达到EUV光刻机的级别。二者主要的差别在于技术原理，俄准备开发的EUV光刻机设备采用的是X射线技术，并非是光掩模技术就可以生产芯片。

所谓的X射线光刻机就是使用波长介于0.01nm到10nm之间的X射线，甚至比EUV的极紫外光还要短一些，所以其分辨率并不比EUV差，甚至还要更高。除此之外，不需要光掩模的光刻机在成本方面也能够最大限度降低，这一点也是该类光刻机最大的优势所在。

对此情况，所以也有外媒表示，目前该技术连ASML都做不到。因为目前从相关资料来说， X射线光刻机在全球范围内并没有能够成功量产的按理，而目前现有的X射线光刻机在实际生产和制造芯片的情况下，效率远不如ASML的光刻机设备。所以也就迟迟没有大规模商用。

不过俄在X射线光刻机方面之前就有一定的技术积累，而且无掩模光刻机工艺水平并不是很差，只不过碍于规模化量产问题一直没有解决。所以如果肯花费大量资金研发尝试的话，说不定会取得一定的进步和发展。
华为这次又机会了？而如果X射线光刻机未来成功研发，这对华为来说无疑也是一个好消息。毕竟其关系我们都心知肚明，而且最重要的一点是该类光刻机不会用到美企相关的技术，所以华为能够成为受益者也就成为了顺其自然的事情。
【光刻机|俄正式对光刻机出手，华为或成受益者之一，外媒：ASML也做不到】
总体来说，这对于华为来讲是一个不错的机会，一边是国内企业研发光刻机设备，另一方面俄也开始对X射线光刻机出手，两手准备对于芯片“去美化”也是多了一些希望。
你认为呢？