光刻机|ASML不再供应光刻机，俄厂商掏出“备胎”，连华为也能受益( 二 )

另一方面，大毛投资6.7亿卢布开发全新的光刻机设备：无掩模X射线光刻机，它是全球仅有且光刻精度达到EUV级别的光刻机。 X射线的波长介于0.01nm到10nm之间，比EUV的13.5nm还要短，所以它的分辨率或许会比EUV光刻机高很多，甚至可用于7nm及以下芯片工艺制程。除此之外，由于不需要光掩模，光刻机的成本也会大大降低，一旦量产，这必将成为它最大的优势。
虽然，现在已有的X射线光刻机的效率精度还不能超过EUV光刻机，但大毛研发X射线光刻机的资金，技术，决心样样不缺，研发成功只是时间问题，一旦成功，大毛或会直接闯出芯片封锁，而这对同样被断芯的华为来说，也会很值得高兴，毕竟突破老美的芯片封锁也是我们国产企业的目标。（竹子）

ASML不再供应光刻机，俄厂商掏出“备胎” ，连华为也能受益
【光刻机|ASML不再供应光刻机，俄厂商掏出“备胎”，连华为也能受益】华为的好运将到来？台积电ASML不再供应光刻机，俄厂商亮出底牌