|“去美化”是必然！俄罗斯也正式“出手”了！

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目前俄相关技术学院已经接下了光刻机的项目计划，开发全新的光刻机设备。甚至根据相关人员表示，该光刻机虽然不是ASML公司的EUV光刻机，但是却可以达到EUV光刻机的级别。二者主要的差别在于技术原理，俄准备开发的EUV光刻机设备采用的是X射线技术，并非是光掩模技术就可以生产芯片。
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所谓的X射线光刻机就是使用波长介于0.01nm到10nm之间的X射线，甚至比EUV的极紫外光还要短一些，所以其分辨率并不比EUV差，甚至还要更高。除此之外，不需要光掩模的光刻机在成本方面也能够最大限度降低，这一点也是该类光刻机最大的优势所在。

对此情况，所以也有外媒表示，目前该技术连ASML都做不到。因为目前从相关资料来说， X射线光刻机在全球范围内并没有能够成功量产的按理，而目前现有的X射线光刻机在实际生产和制造芯片的情况下，效率远不如ASML的光刻机设备。所以也就迟迟没有大规模商用。

不过俄在X射线光刻机方面之前就有一定的技术积累，而且无掩模光刻机工艺水平并不是很差，只不过碍于规模化量产问题一直没有解决。所以如果肯花费大量资金进行研发尝试的话，说不定会取得一定的进步和发展。而如果X射线光刻机未来成功研发，这对华为来说无疑也是一个好消息。毕竟其关系我们都心知肚明，而且最重要的一点是该类光刻机不会用到美企相关的技术，所以华为能够成为受益者也就成为了顺其自然的事情。

总体来说，这对于华为来讲是一个不错的机会，一边是国内企业研发光刻机设备，另一方面俄也开始对X射线光刻机出手，两手准备对于芯片“去美化”也是多了一些希望。