【 ic|半导体设备业者：3纳米良率拉升难度飙升 台积电已不断修正3纳米蓝图】【半导体设备业者：3纳米良率拉升难度飙升 台积电已不断修正3纳米蓝图】财联社2月21日电，台积电、三星电子(SamsungElectronics)先进工艺大战即将进入3纳米世代。但据半导体设备业者表示，3纳米良率拉升难度大飙，台积电为此已不断修正3纳米蓝图，且划分出N3、N3E与N3B等多个版本，寻求最适设计且符合不同客户需求，但3纳米方案迄今问题依旧一箩筐，下半年月产能恐难达标，使得多家 IC设计客户纷延长停留在5纳米家族世代时间。
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