精度|就算送给中国图纸，我们也造不出光刻机？事实证明大话说早了

我国工业实力强大，唯一的遗憾是在芯片领域还存在短板。西方国家公然嘲讽，就算把图纸送给中国，也造不出光刻机。事实真的如此吗？
如今，我国已经建立起全球最完善的工业体系，覆盖200多个工业门类，能自主解决99%以上的工业配件需求，“中国制造”已经成为我国新的名牌，走向了全球。遗憾的是，我国工业尚存在短板，始终在芯片领域受制于其他国家。

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由于缺少研制光刻机方面的经验，过去很长一段时间我国都严重依赖国外芯片，一旦其他国家采取措施，我国高科技产业都将面临被卡脖子的局面。但是，研制光刻机并不容易，我国曾派出专家团队向西方国家学习，没想到西方国家不仅没有给我国提供帮助，反而对我国进行了嘲讽，扬言就算把图纸送给中国，也不可能造出光刻机！面对西方国家的态度，我国选择用实力证明自己。

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据悉，我国上海微电子企业早就研制出了国产光刻机，虽然精度远远比不上世界顶尖水平，却让我国实现了从无到有的突破。值得一提的是，近几年我国国产芯片发展迅猛，成功研制出了高能同步辐射光源设备和透镜镀膜装置，技术处于世界顶尖水准。据悉由中科院研发的“高能同步辐射光源设备”可以适用于航天航空以及半导体等高端领域，同时这也是全球最亮的第四代同步辐射光源之一，高强度的光源可以有效降低芯片制造过程中，对于光刻机设备的精度要求，给国产芯片带来了全新的希望。

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同时，中科科仪研发的纳米聚焦镜镀膜装置也实现了技术突破。透镜镀膜装置的层制备工艺可以满足大多数的物理镜头，其中就包括了EUV光刻机当中的核心部件“光学镜头”，该技术是国产光刻机最重要、同时也是最后的拼图。中科科仪所研发的镀膜设备，已经能够将膜厚的精度很好地控制在0.1nm以内，与国际先进水平相差无几，也足以达到制备光刻机光学镜头的条件。更加关键的是，整个过程完全由我们自主完成。

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【精度|就算送给中国图纸，我们也造不出光刻机？事实证明大话说早了】光刻机作为制造芯片的核心设备，集成了全球最顶尖的科技，没有国家能独立生产，只有荷兰能够组装出顶尖的EUV光刻机。在我科研人员的不懈努力下，制造高端芯片已经成为可能，相信用不了多久，我们就能打破西方国家在芯片领域的垄断，我们也将证明西方国家的大话说早了。